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《半导体制造》
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一种十字形CMOS霍尔器件的精确仿真模型
萘分子器件电输运性质的理论分析
栅源双场板对GaN HEMT器件性能的影响
C+离子注入SiGe衬底提高NiSiGe表面和界面特性研究
纳米晶及非晶镁基贮氢合金薄膜的研究进展
色散旋性材料及磁畴的能带结构与本征模式的厄米矩阵求法*
不同载体表面Pt-Co合金催化剂的电催化H2O2活性
不同形貌TiO2纳米管阵列的光电性能
高抗ESD瞬态电压抑制器的研究
光子晶体狄拉克点周围的等效哈密顿量
二氧化锡纳米线的制备及氢气敏感特性研究
氧化锆氧传感器多孔Pt/YSZ电极的制备与表征
离子注入改性SOI材料总剂量辐射退火效应和机理研究
多晶硅材料制备中施主杂质磷的模拟计算研究
KAIST: 异方性导电胶材料与工艺发展让产品更轻薄
应用于下一代半导体的钌前驱体
高k介质工艺和材料灵敏度研究
FA CMP简介
半导体和电介质材料的激光微细加工
低K介电常数材料评述
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