2026-11-12
这款KrF扫描式半导体光刻机新产品兼具每小时400片晶圆的高产能和业界高水平套刻精度,通过追加图像对准(对位)系统的新光源,强化晶圆翘曲的对应。
2026-11-11
11月10日,芯碁微装公告称,公司拟使用H股上市发行募集资金对全资子公司CFMGlobalLimited增资,增资金额最高不超过约9700万港元。
2026-11-11
阿里巴巴拟分拆全资子公司平头哥技术股份有限公司赴香港联交所主板独立上市。香港联交所已确认阿里巴巴可进行此次分拆,平头哥已于2026年9月11日以保密形式向港交所递交上市申请。
2026-11-11
11月10日,爱利彼半导体设备(上海)股份有限公司在上海证监局完成辅导备案登记,拟在A股IPO,辅导机构为申万宏源。
2026-11-12
台积电计划向人工智能开发商Anthropic和OpenAI投资总计最高10亿美元,台积电董事会周二已批准了这一投资计划
2026-11-11
Anthropic PBC寻求在首次公开募股(IPO)中实现约1.4万亿美元的完全摊薄估值,力争成为首家上市的前沿人工智能实验室。
2026-11-11
三井金属宣布将在马来西亚建设一座全新铜箔工厂,总投资额达1900亿日元,以此应对AI数据中心用光通信零部件以及先进半导体材料不断扩大的市场需求。
2026-11-11
英伟达宣布将投资韩国人工智能初创公司Point2,并计划投资Motif Technologies、RLWORLD和Upstage。
2026-11-12
11月9日,湖南省洪江市高新区与中宝恒元(怀化)科技有限公司就175MW/700MWh磷酸铁锂+25MW/100MWh半固态电池独立储能电站项目举行签约仪式。
2026-11-12
双方将围绕企业AI转型、产品技术共创、用户全周期服务三大维度开展合作,神龙科技将在全新新能源车型上搭载火山引擎最新一代AI座舱解决方案。
2026-11-11
近日,安森美大中华区总部落户上海正式获得上海市商务委员会批准。今年3月,安森美宣布将大中华区总部设于上海,进一步扎根中国市场,以更贴近客户的方式推动本地创新与协作。
2026-11-11
据介绍,PDM平台以统一编码、一码到底为核心,打通研、产、供、销、服全链路,支撑各业务板块在同一环境下开展在线设计、协同评审与数据共享。
2026-11-11
西藏阿里雪域高原“零碳”光储热电示范项目位于西藏阿里地区噶尔县,是全球首个4000米以上超高海拔光伏+熔盐电加热+发电供暖一体化综合能源项目。
2026-11-11
据德国光伏设备商SINGULUS官网显示,11月10日该公司已与SpaceX签署一项供应合同,为其提供一条用于制造异质结太阳能电池的整线交钥匙生产线。
2026-11-11
屋顶总面积约5.3万平方米,直流侧总装机容量达6.279435MWp,共安装705W高效光伏组件8907块。
2026-11-10
华能津市市罗家台羊角汊渔光互补光伏项目利用坑塘水域资源建设,规划装机109.76兆瓦。
2026年11月10-13日 SEMICON Europa 2026 慕尼黑
2026年11月24日 SEMI 中国2026年度秋季标准会议 珠海
2026年11月25日 SEMI半导体产业合作研讨会- 中国半导体制造供应链暨标准论坛 珠海
2026年11月25日-12月2日 芯耀未来 Chip the Future Challenge-SEMI 半导体大赛
2026年12月4日 SEMI 中国硅光委员会会议 无锡
2026年12月9-11日 SEMICON Japan 2026 东京
2027年2月17-19日 SEMICON Korea 2027 首尔
2027年3月21-23日 集成电路科学技术大会(CSTIC) 2027 上海
SEMI报告:2026年第三季度全球硅晶圆出货量同比增长13.4%
ESDA报告:2026年第二季度电子系统设计产业销售额达57亿美元
SEMI报告:随着建设提速,预测全球300mm晶圆厂设备支出将在2029年达到2270亿美元
SEMI报告:2026年第二季度全球半导体设备出货金额同比增长23%
SEMI报告:2026年第二季度全球硅晶圆出货量同比增长7.4%
SEMI报告:2028年全球半导体设备销售额预计创纪录,达2295亿美元
ESDA报告:2026年第一季度电子系统设计产业销售额达57亿美元
SEMI与TechSearch International联合发布2026版《全球封装测试厂数据库》
Zhaolong Wang | 2026-09-04
AI算力需求的兴起已重新定义半导体设备行业的价值逻辑。当今,中国设备产业正在完成的,不是数量替代,而是进入全球工艺竞争体系的能力重构。
综合报道 | 2026-11-10
中微公司Primo Matrix® 采用在量产已得到充分验证的Primo TSV®的等离子体深硅刻蚀技术,集成双反应台刻蚀腔室及晶圆传输模块,兼具高产能、高精度、低成本和灵活的工艺适配能力。
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