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整体光刻有效降低成本
 
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出自: SEMI中国
地点: 上海
简述:  

全方位光刻优化方案(Holistic),2015年营收成长20%,越来越多逻辑和内存客户采用ASML最新的量测系统和软件,以达到先进节点工艺的最佳成像效能(patterning performance)。

  

        
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